优势有售日本电子JEOL电镜靶材BS1613 NO.780174721
更新时间：2026-06-26
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产品定位与用途
BS1613 属于小型紧凑型 EB 电子束蒸发源，适配 JEOL 真空镀膜机、离子溅射喷镀设备、SEM 样品前处理镀膜仪：
扫描电镜样品镀金 / 铂 / 碳导电膜制备
实验室薄膜沉积、光学介质膜蒸镀
半导体、微电子、材料实验室薄层镀膜
低功率、小容量坩埚，适合少量样品、科研小批量实验
结构与材质
整体结构：电子束偏转线圈 + 水冷坩埚基座 + 钨 / 钼蒸发坩埚组件
水冷设计：循环水冷基座，长时间蒸镀不高温变形
坩埚材质：高纯钼 / 钨耐高温坩埚，适配金、铂、碳、铝、铬、氧化物等蒸镀材料
真空适配：超高真空结构，无放气污染样品，满足电镜洁净要求
内置电子束偏转系统，电子束可 270° 大范围扫描轰击耗材
参数
额定最大功率：1.3kW（BS1613 对应功率规格）
电子束偏转角度：270°
冷却方式：循环水冷
适用真空度：1×10⁻³ ~ 1×10⁻⁷ Pa
适配蒸镀材料：金属、贵金属、氧化物、碳膜
工作温度：坩埚最高耐受 2200℃+
配套设备：JEOL JFC 系列喷镀仪、真空蒸镀机、薄膜沉积系统
