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扫描电镜样品镀金 / 铂 / 碳导电膜制备
实验室薄膜沉积、光学介质膜蒸镀
半导体、微电子、材料实验室薄层镀膜
低功率、小容量坩埚,适合少量样品、科研小批量实验
整体结构:电子束偏转线圈 + 水冷坩埚基座 + 钨 / 钼蒸发坩埚组件
水冷设计:循环水冷基座,长时间蒸镀不高温变形
坩埚材质:高纯钼 / 钨耐高温坩埚,适配金、铂、碳、铝、铬、氧化物等蒸镀材料
真空适配:超高真空结构,无放气污染样品,满足电镜洁净要求
内置电子束偏转系统,电子束可 270° 大范围扫描轰击耗材
额定最大功率:1.3kW(BS1613 对应功率规格)
电子束偏转角度:270°
冷却方式:循环水冷
适用真空度:1×10⁻³ ~ 1×10⁻⁷ Pa
适配蒸镀材料:金属、贵金属、氧化物、碳膜
工作温度:坩埚最高耐受 2200℃+
配套设备:JEOL JFC 系列喷镀仪、真空蒸镀机、薄膜沉积系统

