更新时间:2026-10-09
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超高纯度材质纯度99.99%(4N 高纯金),杂质含量极低,溅射放电稳定,膜层成分纯净;金本身导电性能优异,镀膜后可以快速导出电荷,消除绝缘样品荷电、图像发白漂移问题,二次电子发射效率高,成像对比度好。化学惰性强,金膜不易氧化,镀好的样品可以长时间存放,导电层不容易失效。
原厂精密加工,尺寸匹配设备规格 Φ48.5×0.1mm,圆盘平整度、定位孔尺寸严格按照 JEOL 设备腔体设计,直接替换安装,无需修改、调试;靶面精密抛光,表面划痕、缺陷控制严格,溅射区域均匀,不会出现局部膜厚不均、飞溅大颗粒的问题;同批次、不同批次靶材镀膜重复性稳定,实验数据可复现。
溅射速率快,制样效率高金的溅射产额高,同等参数下镀膜速度比铂靶更快,短时间即可形成连续导电薄膜;适合大批量样品快速制样,高校、检测中心批量样品测试非常友好。
真空密封包装,降低污染风险原厂真空独立封装,隔绝空气、粉尘污染;靶材超薄 0.1mm,出厂保护到位,开箱后靶工作面洁净,减少样品被杂质污染的概率。
性价比优势对比 JEOL 原厂铂靶,金靶采购成本更低,大批量常规 SEM 制样可以明显降低实验室耗材开销,是通用 SEM 最主流耗材。
适用样品范围广高分子塑料、粉体、矿物、生物样品、陶瓷等各类绝缘样品均可使用;中低放大倍率观察(一般 5000 倍以内),形貌还原效果优秀,不会掩盖样品宏观表面结构。
设备兼容性好,放电稳定专为 JEOL 磁控溅射冷喷涂工艺开发,溅射过程放电平稳,冷溅射工艺对热敏样品(生物、软塑料)损伤小,不易灼伤、破坏样品原始形貌JEOL USA I
原厂品质保障JEOL 原装备件,配套设备算法、溅射参数是配套标定的,不会出现杂牌靶材常见的:溅射打火、膜层开裂、颗粒飞溅、批次差异大等故障,减少设备腔体污染,延长镀膜仪维护周期。
| 项目 | JEOL 金靶 780110871 | JEOL 铂靶 780174721N |
|---|---|---|
| 晶粒 | 金晶粒较大 | 铂晶粒超细 |
| 适用倍率 | 常规 SEM、中低倍率 | FE-SEM、几十万倍高分辨 |
| 溅射速度 | 快,制样高效 | 相对慢 |
| 耗材成本 | 较低 | 昂贵 |
| 样品保存 | 膜层稳定不易氧化 | 膜层稳定 |



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